11月20日,紫光国微在互动平台释放重磅信号:公司石英晶体频率器件业务持续满产满销,在强劲订单支撑下,产线稼动率长期保持高位运行,成为基础元器件赛道的“产能标杆”。作为通信、汽车电子、工业控制等领域的“频率核心”,石英晶体频率器件对精度、稳定性和可靠性要求严苛,行业技术与工艺壁垒较高。凭借多年深耕积累,紫光国微已构建起覆盖多种规格的完善产品矩阵,客户结构多元且稳固,产品广泛适配网络设备、终端电子、
11月20日,紫光国微在互动平台释放重磅信号:公司石英晶体频率器件业务持续满产满销,在强劲订单支撑下,产线稼动率长期保持高位运行,成为基础元器件赛道的“产能标杆”。作为通信、汽车电子、工业控制等领域的“频率核心”,石英晶体频率器件对精度、稳定性和可靠性要求严苛,行业技术与工艺壁垒较高。凭借多年深耕积累,紫光国微已构建起覆盖多种规格的完善产品矩阵,客户结构多元且稳固,产品广泛适配网络设备、终端电子、
功率场效应晶体管特性功率场效应晶体管及其特性一、功率场效应晶体管是电压控制器件,在功率场效应晶体管中较多采用的是V沟槽工艺,这种工艺生产地管称为VMOS场效应晶体管,它的栅极做成V型,有沟道短、耐压能力强、跨导线性好、开关速度快等优点,故在功率应用领域有着广泛的应用,出现一种更好的叫TMOS管,它是在VMOS管基础上改进而成的,没有V形槽,只形成了很短的导通沟槽。二、功率场效应晶体管的基本参数及符
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传统集成电路技术使用平面展开的电子型和空穴型晶体管形成互补结构,从而获得高性能计算能力。其密度的提高主要通过缩小单元晶体管的尺寸来实现。例如7nm节点以下业界使用极紫外光刻技术实现高精度尺寸微缩。极紫外光刻设备复杂,在现有技术节点下能够大幅提升集成密度的三维叠层互补晶体管(CFET)技术价值凸显。然而,全硅基CFET的工艺复杂度高,且性能在复杂工艺环境下退化严重。因此,研发与我国主流技术高度兼容的
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